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2009年10月3日-相對于的G10系列,松(song)(song)下P46S10C等(deng)離(li)(li)子(zi)電(dian)(dian)視沒有應用NeoPDP面板技術,而(er)是G12等(deng)離(li)(li)子(zi)屏(ping),可以(yi)看作是繼G11屏(ping)之后的升級機型。松(song)(song)下P46S10C等(deng)離(li)(li)子(zi)電(dian)(dian)視擁有550H。
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2011年9月1日(ri)-2011年度中國科學(xue)院院級獎(jiang)學(xue)金評審結果近期公(gong)布(bu),等離子體所秦經剛、胡覺和(he)胡君三位博士生(sheng)獲得本年度“中國科學(xue)院院長獎(jiang)”;盛國棟博士生(sheng)獲得“。
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2011年1月14日-火焰切(qie)割、等(deng)離子切(qie)割、激光(guang)切(qie)割是目前金屬切(qie)割的(de)三種方式。作為中國的(de)工程機(ji)械制造商,三一(yi)重工有(you)限公司通過采用海別得系統(tong)支持(chi)的(de)機(ji)器人(ren)等(deng)離子切(qie)割裝置,。
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2011年(nian)1月14日(ri)-火焰(yan)切(qie)割(ge)(ge)、等離(li)子(zi)切(qie)割(ge)(ge)、激光切(qie)割(ge)(ge)是目前金屬切(qie)割(ge)(ge)的三種方(fang)式。伴隨著(zhu)企業對生產效率和生產成(cheng)本的考慮,等離(li)子(zi)切(qie)割(ge)(ge)將會(hui)成(cheng)為用戶的重(zhong)要選擇。
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2011年1月18日-火焰(yan)切割(ge)、等(deng)離子切割(ge)、激光切割(ge)是目(mu)前金屬(shu)切割(ge)的(de)三種方式。伴隨著(zhu)企業對生產效率和生產成本的(de)考(kao)慮,等(deng)離子切割(ge)將會成為用戶的(de)重(zhong)要選擇。與2009年相(xiang)比,。
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2010年8月(yue)1日(ri)-如何挑選電(dian)(dian)視(shi):買液晶還(huan)是(shi)等離子電(dian)(dian)視(shi),股(gu)吧,金融界(jie)愛股(gu),如何挑選電(dian)(dian)視(shi):買液晶還(huan)是(shi)等離子電(dian)(dian)視(shi)萬維家(jia)電(dian)(dian)網原創作者(zhe):萬維家(jia)電(dian)(dian)網論壇整理(li)編輯:李樂。
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摘(zhai)要:金(jin)核(he)霉素(su)是由金(jin)色鏈(lian)霉菌(jun)經發酵產(chan)生的核(he)苷(gan)類抗生素(su)。主要用(yong)于防(fang)治由黃(huang)單胞菌(jun)屬(shu)(Xanthpmonas)引起(qi)的農(nong)作物病(bing)害(hai)。利(li)用(yong)等(deng)離子注入技術進行了金(jin)核(he)霉素(su)菌(jun)種選育,。
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2011年11月5日-數(shu)控切(qie)割機丨數(shu)控等(deng)離(li)子切(qie)割機丨數(shu)控切(qie)割機價格(ge)丨數(shu)控切(qie)割機生產廠家質量(liang)以及切(qie)割其(qi)他種類(lei)金屬的(de)能力這一系列優勢,等(deng)離(li)子成(cheng)為眾(zhong)多金屬切(qie)割應用的(de)理想之選。
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2010年6月(yue)7日(ri)-分析測試百科網,五月(yue),花團錦簇,姹(cha)紫嫣紅。五月(yue),激情迸(beng)發(fa),青春飛(fei)揚。中(zhong)科院(yuan)等離子(zi)體研究所2010年。
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今年,索尼(ni)曾表示放棄(qi)其等離子電(dian)視,而主攻液晶(jing)電(dian)視,并且推出了晶(jing)極光(guang)系(xi)列(lie)產(chan)品。但是(shi),作(zuo)為市場上(shang)為數(shu)不多的滿足高(gao)清要(yao)求的等離子電(dian)視,分辨率達到1024×1024。索尼(ni)SONYKE。
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2013年(nian)5月6日-Tekna-BIT獎學(xue)金是由感(gan)應等離子科(ke)學(xue)與技術的-泰(tai)克納(加拿大)公司在(zai)北京理工大學(xue)設立的。該獎學(xue)金為年(nian)度(du)獎學(xue)金,設立于2013年(nian),主旨(zhi)在(zai)于鼓勵年(nian)輕(qing)研究。
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SK5510是一種在(zai)大氣壓下工作的等離(li)子(zi)表面(mian)處理裝置(zhi)。它的革新性設計(ji)使得高壓和摘要:1.噴射出的等離(li)子(zi)體(ti)流為中性,不帶(dai)電*,可以(yi)對各種高分子(zi)、金。